Cum'è a lucidatura di wafer di ceramica Alumina è dischi di lappatura di zaffiro utilizati in i semi-conduttivi, lucidatura di diamanti etc.
Prucessu: Tutti i tipi di prucessu di pulitura è lappatura, cum'è pulitura meccanica chimica CMP, pulitura meccanica, pulitura di precisione.
Alta purezza è durabilità chimica
Alta Forza Meccanica è Durezza
Alta resistenza à a corrosione
Resistenza à alta tensione
Résistant aux hautes températures jusqu'à 1700ºC
Prestazione estremamente resistente à l'abrasione
Eccellente prestazione di isolamentu
Tutti i tipi di Size 180,360, 450, 600mm etc
Nome di u produttu | 99.7 Dischi di lucidatura in ceramica di allumina di alta purezza |
Materiale | 99,7% d'alumina |
Taglia Normale | D180, 360, 450, 600mm, taglia persunalizata accettata. |
Culore | Ivory |
Applicazione | Prucessu CMP Wafer è Sapphire in l'industria semiconduttiva |
Min.Ordine | 1 Pic |
Unità | 99.7 Alumina Ceramica | ||
Pruprietà generale | cuntenutu Al2O3 | wt% | 99,7-99,9 |
Densità | gm/cc | 3,94-3,97 | |
Culore | - | Ivory | |
Assorbimentu d'acqua | % | 0 | |
Pruprietà meccanica | Résistance à la flexion (MOR) 20 ºC | Mpa (psix10^3) | 440-550 |
Module élastique 20ºC | GPa (psix10^6) | 375 | |
Durezza Vickers | Gpa (kg/mm2) R45N | > = 17 | |
Forza di curvatura | Gpa | 390 | |
Résistance à la traction 25ºC | MPa (psix10^3) | 248 | |
Tenacità à a frattura (KI c) | Mpa* m^1/2 | 4-5 | |
Pruprietà termale | Conduttività termica (20ºC) | W/mk | 30 |
Coefficient d'espansione termica (25-1000ºC) | 1x 10^-6/ºC | 7.6 | |
Resistenza à Shock Thermal | ºC | 200 | |
A temperatura massima di usu | ºC | 1700 | |
Pruprietà elettrica | Forza dielettrica (1 MHz) | ac-kv/mm (ac v/mil) | 8.7 |
Costante dielettrica (1 MHz) | 25ºC | 9.7 | |
Resistività di u voluminu | ohm-cm (25ºC) | > 10^14 | |
ohm-cm (500ºC) | 2×10^12 | ||
ohm-cm (1000ºC) | 2×10^7 |
Acceptemu ordini persunalizati.
Se vulete sapè più infurmazione di u produttu, sentite liberu di cuntattateci è vi daremu u pruduttu più adattatu è u megliu serviziu!